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电子光学洁净工程

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电子光学洁净工程


电子光学洁净工程

电子光电行业,由于其人员密集性,而人员又是洁净室最主要的污染源,所以在设计、人员动向、管理、节能等方面都要做到全面的考量。


洁净工程


光学微电子净化工程一般包括:

1、 洁净生产区

2、 洁净辅助间(包括人员净化用房、物料净化用室和部分生活用室等)

3、 管理区(包括办公、值班、管理和休息等)

4、 设备区(包括净化空调系统应用、电气用房、高纯水和高纯气用房、冷热设备用房)


洁净工程


光学微电子净化工程净化原理

气流→初效净化→空调→中效净化→风机送风→管道→高效净化风口→吹入房间→带走尘埃细菌

等颗粒 → 回风百叶窗→初效净化 重复以上过程,即可达到净化目的。

光学微电子净化工程净化参数

换气次数:100000级≥15次;10000级≥20次;1000≥30次。压差:主车间对相邻房间≥5Pa

平均风速:10级、100级0.3-0.5m/s;温度 冬季>16℃;夏季 <26℃;波动±2℃。

温度45-65%;GMP粉剂车间湿度在50%左右为宜;电子车间湿度略高以免产生静电。

噪声≤65dB(A);新风补充量是总送风量的10%-30%;照度300LX。

光学微电子净化工程结构材料

1. 净化厂房墙、顶板材一般多采用50mm厚的夹芯彩钢板制造,其特点为美观、刚性强。圆弧墙 角、门、窗框等一般采用专用氧化铝型材制造。

2.地面可采用环氧自流坪地坪或高级耐磨塑料地板,有防静电要求的,可选用防静电型。

3.送回风管道用热渡锌板制成,贴净化保温效果好的阻燃型PF发泡塑胶板。

4.高效送风口用不锈钢框架,美观清洁,冲孔网板用烤漆铝板,不生锈不粘尘,宜清洁

随着集成电路光刻等工艺发展,其生产环境对洁净度要求也越来越高,CLASS 100/10级,甚至1级。

我司设计团队将根据客户所属产业实际情况、工艺要求、管理需求,按节能环保的要求,提供洁净室及配套系统整厂规划设计。

1、Class 1K 、10K 、100K分产品需求有不同等级无尘室;

2、压缩空气、有机排气等生产配套系统;


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